”BSIM4模型问题

E

evilguy

Guest
我用我的模拟BSIM4模型。我注意到有3 BSIM4参数代表氧化层厚度。这些参数托克塞是电气氧化层厚度,TOXP这是身体氧化层厚度和DTOX这是托克塞和TOXP差异。谁可以告诉我从托克塞和TOXP什么不同。

我的第二个问题是,如果我想提出的氧化层厚度的参数我要不同的变化。任何一个或两个。谢谢。

 
evilguy说:

我用我的模拟BSIM4模型。
我注意到有3 BSIM4参数代表氧化层厚度。
这些参数托克塞是电气氧化层厚度,TOXP这是身体氧化层厚度和DTOX这是托克塞和TOXP差异。
谁可以告诉我从托克塞和TOXP什么不同。我的第二个问题是,如果我想提出的氧化层厚度的参数我要不同的变化。
任何一个或两个。
谢谢。
 
由于栅氧化层厚度
, 大力减少,有限电荷层的厚度不能忽视,BSIM4模型考虑到这种效果。为此,BSM4接受两个以下三个模型输入:电气栅氧化层厚度TOXE1,物理栅氧化层厚度TOXP,他们的区别DTOX =托克塞- TOXP。根据这些参数,有效的栅氧化层电容Coxeff效果计算。

普拉温

 
谢谢。因此
, 为了我
, 调查氧化层厚度的变化,我要在同样的方式各不相同托克塞和TOXP,使这两个仍等于dtox区别?

 
请任何机构可以解释,如何使用像bsim4 HSPICE的bsim4是C代码。!如何进行模拟和参数提取

 

Welcome to EDABoard.com

Sponsor

Back
Top