在金属层的薄层电阻

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eecs4ever

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在金属层的金属线,为什么RS(薄膜电阻,欧姆/平方)较低时,金属线之间的的间距较大?例如,宽度= 0.2微米的空间= 2 UM卢比= 0.137欧姆/平方米宽度= 0.2微米空间= 0.2um RS = 0.037欧姆/平方米的感谢。
 
薄层电阻取决于金属... ...我觉得是有没有金属间距之间的关系... ... ü哪儿得到这个信息。可以寄给我... ...如果u得到的答复邮件给我[电子邮件] shankar.mit @ gmail.com [/电子邮件]感谢问候尚卡尔
 
您好,当金属closly间隔,金属蚀刻不足,从而RS较低。当金属间距相距甚远,金属蚀刻过,因此有“金属”单位体积,从而卢比较高。例如,在“凌晨”的效果,金属矩形,但有坡度的侧墙上。我认为0.13微米及以下的卢比有模型这种效果。关于韩,英 www.eda utilities.com
 
我同意与尚卡尔,有没有金属间距依赖于薄膜电阻,normaly。您有更多的指定你的几何。你的材料(基材,金属)可以在你的实验中发挥的作用probabely。 BR Dalicko
 
为90纳米或以下,薄膜电阻会有所不同,如果金属间距和宽度是不同的,它是由于制造工艺的差异,如leeenghan指出,,但为0.13及以上,有相同。
 
我不找任何薄膜电阻和金属间距之间的关系。片电阻,特别是金属的属性。它是固定的代工人。其中作为金属间距是固定由一个ASIC的物理设计团队
 
我想原因是绘制宽度并不总是硅宽度。当你流片设计,晶圆代工将产生光刻面具,首先根据您的布局。但normmaly面具是从不同的布局,尤其是当OPC拓科技是用来达到更好的产量在013u或以下。线的宽度调整的结果之一。 Normmaly在光刻过程中,50%的格局密度将得到最好的打印效果。因此,当宽/空间布局中0.2u/2u,面膜的大小可能0.3u/1.8u(代工取决于)。然后,您会看到不同的RS。 [SIZE = 2] [颜色=#999999] 12分钟后添加:[/彩色] [/SIZE] [报价= leeenghan]嗨,当金属closly间隔,金属蚀刻不足,从而RS较低。当金属间距相距甚远,金属蚀刻过,因此有“金属”单位体积,从而卢比较高。例如,在“凌晨”的效果,金属矩形,但有坡度的侧墙上。我认为0.13微米及以下的卢比有模型这种效果。关于韩,英 www.eda - utilities.com [/QUOTE]喜Leeenghan:WEE线边缘肿大。任何影响(从制造业行为),导致真正的维度不等于绘图称为WEE。偏置,凹陷,侵蚀,梯形。
 

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