SiGe技术的经验

E

eng_islam

Guest
我问的是在硅锗技术工作。不同的只是过程比四,什么是我的considration时采取的IM上高科技工作。像0.25μ锗thanx
 
锗是一种BiCMOS技术。所以,你可以选择使用双极晶体管(垂直双极晶体管)。通常,这些BJT的具有比CMOS晶体管高得多英尺(也许一个数量级以上),使他们能够使用更高频率。我不认为这是一个特殊的考虑。你只需要选择使用,除了正常的MOS晶体管的超高速双极晶体管。只是考虑到BJT的局限性护理,即:基极电流,较大的地区,有限的摆动,和相对较高的VBE(可能达到0.8 - 0.9伏特,这可能会导致净空限制)。问候
 
我认为对于MOS晶体管将具有更高的KP和KN哪个更好
 
SiGe技术的优点是较高的FT,噪音小,更大的击穿电压(PA有用)。缺点是制造成本,更高的电源电压 - >电量越多,“小积”(在相同的IC数字电路和模拟电路)等,所以锗的应用> 10 - 15GHz的地方去用硅CMOS cannot ...关于麦迪
 

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